科技改變生活 · 科技引領未來
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光刻機是芯片制造九大核心設備之首，它被譽為芯片制造業皇冠上的明珠。它將40多個學科的最新成就融合，是所有半導體制造設備中技術難度最大、成本最高的設備。
目前，全球只有只有四家能夠造出光刻機的企業，那就是荷蘭ASML、日本佳能和尼康和上海微電子四家公司。但是這四家公司的地位不是并列的，能夠研發出最先進的、5nm及3nm以下高端芯片制造不可或缺的EUV光刻機，卻只有荷蘭的ASML公司，單臺售價約1.2億美元。而ASML公司的最新款光刻機將會在2025年推出，單臺售價預計超過3億美元。
曾經有人指出，中國大陸的光刻機落后國際十五年。這是因為由于《瓦森納協定》的限制，荷蘭公司的EUV光刻機卻不能供給給中國用戶所以我國芯片制造能力止步于14nm，而且在全球100強芯片廠商中，中國的芯片企業就占據42家，但是主要都是生產28nm以上的中低端芯片。
要知道，EUV光刻機10萬多個關鍵零部件，一個零部件沒有達到標準，整個EUV光刻機就前功盡棄。這是為什么，EUV光刻機在芯片界能有這樣的地位，它一直是人類歷史上最為復雜、售價最高的超高精度商用（非軍用）設備之一。而我國當前欠缺的正是EUV光刻機生產離不開的芯片裝備產業鏈的綜合實力。
高龍遠